All-Solution-Processed Van der Waals Heterostructures for Wafer-Scale Electronics

. 2022 Mar ; 34 (12) : e2106110. [epub] 20220208

Status PubMed-not-MEDLINE Jazyk angličtina Země Německo Médium print-electronic

Typ dokumentu časopisecké články

Perzistentní odkaz   https://www.medvik.cz/link/pmid34933395

Grantová podpora
National Research Foundation of Korea
2020R1C1C1009381 Korean Government (MSIT)
2019M3D1A2104108 Korean Government (MSIT)
2020R1A4A2002806 Korean Government (MSIT)
Korea Basic Science Institute
National Research Facilities and Equipment Center
2019R1A6C1010031 Korean Government (Ministry of Education)
LTAUSA19034 Ministry of Education Youth and Sports
20-16124J Czech Science Foundation
A2_FCHT_2021_006 Specific University Research

2D van der Waals (vdW) materials have been considered as potential building blocks for use in fundamental elements of electronic and optoelectronic devices, such as electrodes, channels, and dielectrics, because of their diverse and remarkable electrical properties. Furthermore, two or more building blocks of different electronic types can be stacked vertically to generate vdW heterostructures with desired electrical behaviors. However, such fundamental approaches cannot directly be applied practically because of issues such as precise alignment/positioning and large-quantity material production. Here, these limitations are overcome and wafer-scale vdW heterostructures are demonstrated by exploiting the lateral and vertical assembly of solution-processed 2D vdW materials. The high exfoliation yield of the molecular intercalation-assisted approach enables the production of micrometer-sized nanosheets in large quantities and its lateral assembly in a wafer-scale via vdW interactions. Subsequently, the laterally assembled vdW thin-films are vertically assembled to demonstrate various electronic device applications, such as transistors and photodetectors. Furthermore, multidimensional vdW heterostructures are demonstrated by integrating 1D carbon nanotubes as a p-type semiconductor to fabricate p-n diodes and complementary logic gates. Finally, electronic devices are fabricated via inkjet printing as a lithography-free manner based on the stable nanomaterial dispersions.

Zobrazit více v PubMed

a) K. S. Novoselov, V. I. Fal'ko, L. Colombo, P. R. Gellert, M. G. Schwab, K. Kim, Nature 2012, 490, 192;

b) Q. H. Wang, K. Kalantar-Zadeh, A. Kis, J. N. Coleman, M. S. Strano, Nat. Nanotechnol. 2012, 7, 699;

c) D. Jariwala, V. K. Sangwan, L. J. Lauhon, T. J. Marks, M. C. Hersam, ACS Nano 2014, 8, 1102.

K. S. Novoselov, A. K. Geim, S. V. Morozov, D. Jiang, Y. Zhang, S. V. Dubonos, I. V. Grigorieva, A. A. Firsov, Science 2004, 306, 666.

a) B. Radisavljevic, A. Radenovic, J. Brivio, V. Giacometti, A. Kis, Nat. Nanotechnol. 2011, 6, 147;

b) C. R. Dean, A. F. Young, I. Meric, C. Lee, L. Wang, S. Sorgenfrei, K. Watanabe, T. Taniguchi, P. Kim, K. L. Shepard, J. Hone, Nat. Nanotechnol. 2010, 5, 722;

c) K. F. Mak, C. Lee, J. Hone, J. Shan, T. F. Heinz, Phys. Rev. Lett. 2010, 105, 136805.

a) Y. Liu, N. O. Weiss, X. D. Duan, H. C. Cheng, Y. Huang, X. F. Duan, Nat. Rev. Mater. 2016, 1, 16042;

b) D. Jariwala, T. J. Marks, M. C. Hersam, Nat. Mater. 2017, 16, 170;

c) A. K. Geim, I. V. Grigorieva, Nature 2013, 499, 419;

d) L. Wang, I. Meric, P. Y. Huang, Q. Gao, Y. Gao, H. Tran, T. Taniguchi, K. Watanabe, L. M. Campos, D. A. Muller, J. Guo, P. Kim, J. Hone, K. L. Shepard, C. R. Dean, Science 2013, 342, 614.

Z. Y. Lin, Y. Huang, X. F. Duan, Nat. Electron. 2019, 2, 378.

G. H. Lee, X. Cui, Y. D. Kim, G. Arefe, X. Zhang, C. H. Lee, F. Ye, K. Watanabe, T. Taniguchi, P. Kim, J. Hone, ACS Nano 2015, 9, 7019.

F. Withers, O. Del Pozo-Zamudio, A. Mishchenko, A. P. Rooney, A. Gholinia, K. Watanabe, T. Taniguchi, S. J. Haigh, A. K. Geim, A. I. Tartakovskii, K. S. Novoselov, Nat. Mater. 2015, 14, 301.

X. Cui, G. H. Lee, Y. D. Kim, G. Arefe, P. Y. Huang, C. H. Lee, D. A. Chenet, X. Zhang, L. Wang, F. Ye, F. Pizzocchero, B. S. Jessen, K. Watanabe, T. Taniguchi, D. A. Muller, T. Low, P. Kim, J. Hone, Nat. Nanotechnol. 2015, 10, 534.

a) M. Y. Li, Y. M. Shi, C. C. Cheng, L. S. Lu, Y. C. Lin, H. L. Tang, M. L. Tsai, C. W. Chu, K. H. Wei, J. H. He, W. H. Chang, K. Suenaga, L. J. Li, Science 2015, 349, 524;

b) R. Cheng, D. H. Li, H. L. Zhou, C. Wang, A. X. Yin, S. Jiang, Y. Liu, Y. Chen, Y. Huang, X. F. Duan, Nano Lett. 2014, 14, 5590.

a) L. Britnell, R. V. Gorbachev, R. Jalil, B. D. Belle, F. Schedin, A. Mishchenko, T. Georgiou, M. I. Katsnelson, L. Eaves, S. V. Morozov, N. M. R. Peres, J. Leist, A. K. Geim, K. S. Novoselov, L. A. Ponomarenko, Science 2012, 335, 947;

b) A. Mishchenko, J. S. Tu, Y. Cao, R. V. Gorbachev, J. R. Wallbank, M. T. Greenaway, V. E. Morozov, S. V. Morozov, M. J. Zhu, S. L. Wong, F. Withers, C. R. Woods, Y. J. Kim, K. Watanabe, T. Taniguchi, E. E. Vdovin, O. Makarovsky, T. M. Fromhold, V. I. Fal'ko, A. K. Geim, L. Eaves, K. S. Novoselov, Nat. Nanotechnol. 2014, 9, 808.

A. Avsar, I. J. Vera-Marun, J. Y. Tan, K. Watanabe, T. Taniguchi, A. H. Castro Neto, B. Ozyilmaz, ACS Nano 2015, 9, 4138.

Z. Y. Lin, Y. Liu, U. Halim, M. N. Ding, Y. Y. Liu, Y. L. Wang, C. C. Jia, P. Chen, X. D. Duan, C. Wang, F. Song, M. F. Li, C. Z. Wan, Y. Huang, X. F. Duan, Nature 2018, 562, 254.

a) G. H. Hu, J. Kang, L. W. T. Ng, X. X. Zhu, R. C. T. Howe, C. G. Jones, M. C. Hersam, T. Hasan, Chem. Soc. Rev. 2018, 47, 3265;

b) J. Kang, V. K. Sangwan, J. D. Wood, M. C. Hersam, Acc. Chem. Res. 2017, 50, 943;

c) V. Nicolosi, M. Chhowalla, M. G. Kanatzidis, M. S. Strano, J. N. Coleman, Science 2013, 340, 1226419;

d) J. N. Coleman, M. Lotya, A. O'Neill, S. D. Bergin, P. J. King, U. Khan, K. Young, A. Gaucher, S. De, R. J. Smith, I. V. Shvets, S. K. Arora, G. Stanton, H. Y. Kim, K. Lee, G. T. Kim, G. S. Duesberg, T. Hallam, J. J. Boland, J. J. Wang, J. F. Donegan, J. C. Grunlan, G. Moriarty, A. Shmeliov, R. J. Nicholls, J. M. Perkins, E. M. Grieveson, K. Theuwissen, D. W. McComb, P. D. Nellist, et al., Science 2011, 331, 568.

C. Backes, B. M. Szydlowska, A. Harvey, S. J. Yuan, V. Vega-Mayoral, B. R. Davies, P. L. Zhao, D. Hanlon, E. J. G. Santos, M. I. Katsnelson, W. J. Blau, C. Gadermaier, J. N. Coleman, ACS Nano 2016, 10, 1589.

a) Z. Zeng, Z. Yin, X. Huang, H. Li, Q. He, G. Lu, F. Boey, H. Zhang, Angew. Chem., Int. Ed. 2011, 50, 11093;

b) A. Raza, J. Z. Hassan, M. Ikram, S. Ali, U. Farooq, Q. Khan, M. Maqbool, Adv. Mater. Interfaces 2021, 8, 2002205.

a) S. Yang, M. R. Lohe, K. Mullen, X. L. Feng, Adv. Mater. 2016, 28, 6213;

b) S. Yang, A. G. Ricciardulli, S. Liu, R. Dong, M. R. Lohe, A. Becker, M. A. Squillaci, P. Samori, K. Mullen, X. Feng, Angew. Chem., Int. Ed. 2017, 56, 6669.

a) A. G. Kelly, T. Hallam, C. Backes, A. Harvey, A. S. Esmaeily, I. Godwin, J. Coelho, V. Nicolosi, J. Lauth, A. Kulkarni, S. Kinge, L. D. A. Siebbeles, G. S. Duesberg, J. N. Coleman, Science 2017, 356, 69;

b) R. F. Hossain, A. B. Kaul, J. Vac. Sci. Technol. B 2020, 38, 042206;

c) D. McManus, S. Vranic, F. Withers, V. Sanchez-Romaguera, M. Macucci, H. Yang, R. Sorrentino, K. Parvez, S.-K. Son, G. Iannaccone, K. Kostarelos, G. Fiori, C. Casiraghi, Nat. Nanotechnol. 2017, 12, 343;

d) H. Yang, F. Withers, E. Gebremedhn, E. Lewis, L. Britnell, A. Felten, V. Palermo, S. Haigh, D. Beljonne, C. Casiraghi, 2D Mater. 2014, 1, 011012.

S. De, J. N. Coleman, ACS Nano 2010, 4, 2713.

A. Splendiani, L. Sun, Y. B. Zhang, T. S. Li, J. Kim, C. Y. Chim, G. Galli, F. Wang, Nano Lett. 2010, 10, 1271.

J. Zhu, J. Kang, J. M. Kang, D. Jariwala, J. D. Wood, J. W. T. Seo, K. S. Chen, T. J. Marks, M. C. Hersam, Nano Lett. 2015, 15, 7029.

D. W. McNeill, S. Bhattacharya, H. Wadsworth, F. H. Ruddell, S. J. N. Mitchell, B. M. Armstrong, H. S. Gamble, J. Mater. Sci.: Mater. Electron. 2008, 19, 119.

S. Lai, S. Byeon, S. K. Jang, J. Lee, B. H. Lee, J. H. Park, Y. H. Kim, S. Lee, Nanoscale 2018, 10, 18758.

L. Zhang, M. Liu, W. Ren, Z. Y. Zhou, G. H. Dong, Y. J. Zhang, B. Peng, X. H. Hao, C. Y. Wang, Z. D. Jiang, W. X. Jing, Z. G. Ye, Rsc. Adv. 2017, 7, 8388.

K.-L. Lin, T.-H. Hou, J. Shieh, J.-H. Lin, C.-T. Chou, Y.-J. Lee, J. Appl. Phys. 2011, 109, 084104.

M. A. Lukowski, A. S. Daniel, F. Meng, A. Forticaux, L. Li, S. Jin, J. Am. Chem. Soc. 2013, 135, 10274.

J. Yota, H. Shen, R. Ramanathan, J. Vac. Sci. Technol. A 2013, 31, 01A134.

a) Y. Choi, J. Kang, E. B. Secor, J. Sun, H. Kim, J. A. Lim, M. S. Kang, M. C. Hersam, J. H. Cho, Adv. Funct. Mater. 2018, 28, 1802610;

b) H. Shi, L. Ding, D. Zhong, J. Han, L. Liu, L. Xu, P. Sun, H. Wang, J. Zhou, L. Fang, Z. Zhang, L.-M. Peng, Nat. Electron. 2021, 4, 405.

M. Amani, D.-H. Lien, D. Kiriya, J. Xiao, A. Azcatl, J. Noh, S. R. Madhvapathy, R. Addou, S. Kc, M. Dubey, K. Cho, R. M. Wallace, S.-C. Lee, J.-H. He, J. W. Ager, X. Zhang, E. Yablonovitch, A. Javey, Science 2015, 350, 1065.

a) Y. Xi, M. I. Serna, L. Cheng, Y. Gao, M. Baniasadi, R. Rodriguez-Davila, J. Kim, M. A. Quevedo-Lopez, M. Minary-Jolandan, J. Mater. Chem. C 2015, 3, 3842;

b) X. Yu, M. S. Prévot, K. Sivula, Chem. Mater. 2014, 26, 5892;

c) J. Li, M. M. Naiini, S. Vaziri, M. C. Lemme, M. Östling, Adv. Funct. Mater. 2014, 24, 6524;

d) J. Robertson, D. Blomdahl, K. Islam, T. Ismael, M. Woody, J. Failla, M. Johnson, X. Zhang, M. Escarra, Appl. Phys. Lett. 2019, 114, 163102.

X. Gao, J. Yin, G. Bian, H.-Y. Liu, C.-P. Wang, X.-X. Pang, J. Zhu, Nano Res. 2021, 14, 2255.

Y. Liu, J. Guo, E. Zhu, L. Liao, S.-J. Lee, M. Ding, I. Shakir, V. Gambin, Y. Huang, X. Duan, Nature 2018, 557, 696.

M. Buscema, J. O. Island, D. J. Groenendijk, S. I. Blanter, G. A. Steele, H. S. J. van der Zant, A. Castellanos-Gomez, Chem. Soc. Rev. 2015, 44, 3691.

a) J. Kang, S. A. Wells, V. K. Sangwan, D. Lam, X. L. Liu, L. X. Jan, Z. Sofer, M. C. Hersam, Adv. Mater. 2018, 30, 1802990;

b) D. Kufer, G. Konstantatos, Nano Lett. 2015, 15, 7307.

a) Z. Y. Yin, H. Li, H. Li, L. Jiang, Y. M. Shi, Y. H. Sun, G. Lu, Q. Zhang, X. D. Chen, H. Zhang, ACS Nano 2012, 6, 74;

b) M. M. Furchi, D. K. Polyushkin, A. Pospischil, T. Mueller, Nano Lett. 2014, 14, 6165;

c) X. D. Wang, P. Wang, J. L. Wang, W. D. Hu, X. H. Zhou, N. Guo, H. Huang, S. Sun, H. Shen, T. Lin, M. H. Tang, L. Liao, A. Q. Jiang, J. L. Sun, X. J. Meng, X. S. Chen, W. Lu, J. H. Chu, Adv. Mater. 2015, 27, 6575;

d) J. Kwon, Y. K. Hong, G. Han, I. Omkaram, W. Choi, S. Kim, Y. Yoon, Adv. Mater. 2015, 27, 2224;

e) Y. Huang, F. W. Zhuge, J. X. Hou, L. Lv, P. Luo, N. Zhou, L. Gan, T. Y. Zhai, ACS Nano 2018, 12, 4062;

f) D. H. Kang, S. R. Pae, J. Shim, G. Yoo, J. Jeon, J. W. Leem, J. S. Yu, S. Lee, B. Shin, J. H. Park, Adv. Mater. 2016, 28, 7799;

g) D. H. Kang, M. S. Kim, J. Shim, J. Jeon, H. Y. Park, W. S. Jung, H. Y. Yu, C. H. Pang, S. Lee, J. H. Park, Adv. Funct. Mater. 2015, 25, 4219;

h) D. Kufer, I. Nikitskiy, T. Lasanta, G. Navickaite, F. H. L. Koppens, G. Konstantatos, Adv. Mater. 2015, 27, 176;

i) F. Bonaccorso, Z. Sun, T. Hasan, A. C. Ferrari, Nat. Photonics 2010, 4, 611;

j) Y. T. Lee, J. H. Kang, K. Kwak, J. Ahn, H. T. Choi, B. K. Ju, S. H. Shokouh, S. Im, M. C. Park, D. K. Hwang, ACS Photonics 2018, 5, 4745;

k) E. Zhang, Y. B. Jin, X. Yuan, W. Y. Wang, C. Zhang, L. Tang, S. S. Liu, P. Zhou, W. D. Hu, F. X. Xiu, Adv. Funct. Mater. 2015, 25, 4076;

l) M. Hafeez, L. Gan, H. Q. Li, Y. Ma, T. Y. Zhai, Adv. Mater. 2016, 28, 8296;

m) B. Lei, Z. H. Hu, D. Xiang, J. Y. Wang, G. Eda, C. Han, W. Chen, Nano Res. 2017, 10, 1282.

H. S. Lee, S. S. Baik, K. Lee, S.-W. Min, P. J. Jeon, J. S. Kim, K. Choi, H. J. Choi, J. H. Kim, S. Im, ACS Nano 2015, 9, 8312.

a) X. Wan, X. Miao, J. Yao, S. Wang, F. Shao, S. Xiao, R. Zhan, K. Chen, X. Zeng, X. Gu, J. Xu, Adv. Mater. 2021, 33, 2100260;

b) D. J. Finn, M. Lotya, G. Cunningham, R. J. Smith, D. McCloskey, J. F. Donegan, J. N. Coleman, J. Mater. Chem. C 2014, 2, 925;

c) F. Torrisi, T. Hasan, W. Wu, Z. Sun, A. Lombardo, T. S. Kulmala, G.-W. Hsieh, S. Jung, F. Bonaccorso, P. J. Paul, D. Chu, A. C. Ferrari, ACS Nano 2012, 6, 2992.

S. Lei, X. Wang, B. Li, J. Kang, Y. He, A. George, L. Ge, Y. Gong, P. Dong, Z. Jin, G. Brunetto, W. Chen, Z.-T. Lin, R. Baines, D. S. Galvão, J. Lou, E. Barrera, K. Banerjee, R. Vajtai, P. Ajayan, Nat. Nanotechnol. 2016, 11, 465.

S. Fiechter, K. Eckert, J. Cryst. Growth 1988, 88, 435.

Y. Hernandez, V. Nicolosi, M. Lotya, F. M. Blighe, Z. Sun, S. De, I. T. McGovern, B. Holland, M. Byrne, Y. K. Gun'Ko, J. J. Boland, P. Niraj, G. Duesberg, S. Krishnamurthy, R. Goodhue, J. Hutchison, V. Scardaci, A. C. Ferrari, J. N. Coleman, Nat. Nanotechnol. 2008, 3, 563.

H. B. Park, M. Cho, J. Park, S. W. Lee, C. S. Hwang, J.-P. Kim, J.-H. Lee, N.-I. Lee, H.-K. Kang, J.-C. Lee, S.-J. Oh, J. Appl. Phys. 2003, 94, 3641.

Najít záznam

Citační ukazatele

Nahrávání dat ...

Možnosti archivace

Nahrávání dat ...